铅笔道作者 | 爱羽湖南长沙跑出一个未来独角兽。2025年2月18日，普照材料完成7.4亿元B轮融资。本轮融资由湖南能源集团、深创投制造业转型升级新材料基金领投，并引入综改试验（深圳）股权投资基金、江丰电子、兴湘资本和湘江国投等新投资人。
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普照材料成立于2003年，是一家专注于高精度光掩膜基板材料研发、生产与销售的高科技企业。其核心产品包括溅射匀胶铬版、玻璃基板等，广泛应用于新型平板显示器件、集成电路、精细光学、线路板、微纳加工及激光防伪等领域。
通俗地说，普照材料的业务是研发和生产“光刻模板”，帮助制造更先进的显示屏和芯片。 其用户包括平板显示器件制造商、半导体公司等，解决的核心问题是打破国外对高端掩模基板材料的垄断。
创始团队的初心是解决国内高端掩模基板依赖进口的问题。
普照材料的创始人是王佳悦，自 2003 年公司成立以来，担任法定代表人。他曾带领团队打破国外技术封锁，掌握了掩模基板生产核心技术，先后完成 100 多个型号产品的开发认证及量产销售。
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2000年，公司创立之初，国内平板显示和半导体行业快速发展，但本土企业技术薄弱，高端产品几乎完全依赖进口，市场被国外企业垄断，如日本、美国的一些企业在技术和市场份额上占据绝对优势，成为产业链的“卡脖子”环节。直到2010年，这种局面才有较大好转。国内部分企业开始涉足高端掩模基板领域，尝试技术研发和产品生产。但整体上与国际先进水平差距较大，面临设备、工艺、材料等多方面技术难题，仅在中低端产品上取得一定突破，高端产品的国产化率仍然很低——国外企业如日本东丽、美国应用材料等仍占据主导地位。2020 年-2025 年，技术加速突破，国产化进程加快。部分国内企业取得重要技术突破，如无锡迪思微电子在 2024 年实现了 90nm 高端掩模产品的首次生产与交付，并计划向更先进技术节点推进；冠石科技计划投入 20 亿元用于建设专注于 45-28nm 成熟制程的半导体光掩膜版制造项目。此次普照材料融资7.4亿元，愿景之一也是推动高端掩模基板的国产替代。
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回顾过去20年，普照材料有几个关键节点。2003年，普照材料成立；2010年，建成国内首条溅射匀胶铬版生产线，产品开始进入国内市场；2020年，完成100多项型号产品的开发认证及量产销售，产品销往欧美日韩；2024年初，完成5.6亿元A轮融资；2024年12月，8.6代高精度掩模基板项目在湘江新区开工，总投资18亿元；2025年2月，完成7.4亿元B轮融资，资金将用于二期半导体用掩模基板项目建设。在风投圈，这算是一个低调多年被发现的宝藏企业。成立11年，才被投资机构发现。2024年，公司营收突破10亿元，预计2025年营收将增长至15亿元。全球掩模基板市场规模庞大，预计到2030年将超过100亿美元。根据市场研究数据，2023年中国掩模基板市场规模约为9.57亿美元，占全球市场约9.57%。从竞争角度看，国内市场尚未形成绝对头部，尤其是在高端掩模基板领域。普照材料的主要竞争对手包括日本的HOYA和韩国的LG化学。掩模基板技术正朝着高精度、多功能方向发展。未来，随着Mini LED、Micro LED等新兴显示技术的普及，掩模基板市场将迎来更多机会。本文不构成任何投资建议。图片由AI创作。
原文标题 : 长沙杀出未来独角兽：融资7.4亿元，打破垄断
